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首頁(yè) 蝕刻工藝|問(wèn)題

化學(xué)蝕刻中常見(jiàn)的問(wèn)題

2017-05-22 20:13:59 

化學(xué)蝕刻中常見(jiàn)的問(wèn)題有:

1、 邊緣輪廓線不清楚,這種情況是因?yàn)榱慵砻嬲次?,如手印、化學(xué)污染、氧化膜、防蝕層邊緣不清晰等,還有就是蝕刻液濃度不在工藝規(guī)定范圍內(nèi),這種情況下首先需要加強(qiáng)各工序管理,防止二次污染,在蝕刻之前對(duì)防蝕層檢查要嚴(yán)格,其次分析調(diào)整蝕刻液各成分至工藝規(guī)定范圍。

2、 粗糙的蝕刻表面,被蝕刻表面有溝槽、留痕及點(diǎn)蝕,其主要原因是蝕刻液中AI3+濃度太高,NaOH濃度太高或太低,蝕刻后酸洗后,漂洗不凈,糾正的方法就是分析調(diào)整蝕刻液各成份濃度到工藝規(guī)定范圍,加強(qiáng)酸洗后的水洗質(zhì)量。

3、 形成凹坑主要是因?yàn)槲g刻液中AI3+濃度及NaOH濃度太高,處理的方法就是稀釋蝕刻液,降低濃度。

化學(xué)蝕刻

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